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【蘭州純水設(shè)備http://m.smarts-edu.cn】EDI精處理系統(tǒng)主要功能是深一層除去水中的鹽類和離子，使水的純度提高（電阻率≥10.0MΩ.CM）；該裝置產(chǎn)出水水質(zhì)穩(wěn)定，產(chǎn)出的水質(zhì)的電阻率可達(dá)16.0MΩ左右。

設(shè)備主要包括：EDI給水泵、EDI 裝置等。

3.1 EDI裝置

EDI裝置是應(yīng)用有反滲透系統(tǒng)之后，取代混合離子交換床的成熟技術(shù)具有產(chǎn)水品質(zhì)穩(wěn)定，運(yùn)行費(fèi)用低，操作管理方便。占地面積小及無有害廢水排放等優(yōu)點(diǎn)。超純水制備工藝的發(fā)展方向，已被全世界主要水處理工程公司所認(rèn)證。自1986年EDI技術(shù)工業(yè)化以來，已有數(shù)千套EDI投入支行，尤其在制藥、半導(dǎo)體、電力和光電等工業(yè)中得到了非常廣泛的應(yīng)用。

EDI設(shè)備特點(diǎn)

EDI（電除鹽）的優(yōu)點(diǎn)：

1、不需要酸堿再生

電除鹽的操作安全的，廢水的處理變得簡(jiǎn)單了。

2、可連續(xù)生產(chǎn)

電除鹽的生產(chǎn)是連續(xù)的，免除了使用混床過程中復(fù)雜的再生操作，減少了很多備用設(shè)備。

3、不需要處理廢酸堿

沒有廢酸堿的中和排放處理系統(tǒng)。電除鹽的濃水可以直接排放或返回到RO的進(jìn)口（EDI中濃水量比純水少得多）。

4、安裝條件簡(jiǎn)單

電除鹽在安裝時(shí)，占地面積小，大部分標(biāo)準(zhǔn)廠房都能滿足，對(duì)于較低的廠房，可以通過對(duì)電除鹽模塊的水平配置解決。

5、系統(tǒng)設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單

電除鹽的模塊設(shè)計(jì)很容易把它的流量做到5噸/小時(shí)甚至更高。

6、運(yùn)行成本低

電除鹽系統(tǒng)與各種混床相比，在價(jià)格上有競(jìng)爭(zhēng)性。

7、實(shí)用的設(shè)計(jì)

對(duì)于電除鹽系統(tǒng)，不管是維修還是增減設(shè)備的容量都是很容易的,必須要更換膜堆時(shí)，在現(xiàn)場(chǎng)只要花極少的停機(jī)時(shí)間就可以完成。

8、水質(zhì)穩(wěn)定

電除鹽的出水質(zhì)量穩(wěn)定有把握。不會(huì)有普通混床那樣的水質(zhì)變化。

9、安裝維修簡(jiǎn)便

電除鹽裝置允許通過對(duì)其他膜堆的流量重新分配而達(dá)到對(duì)某一個(gè)膜堆維修的要求，不改變系統(tǒng)的性能。

10、標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)

利用標(biāo)準(zhǔn)單元，如同搭積木般的組合可以滿足用戶不同產(chǎn)水量的需要。

EDI的工作原理：

自來水中常含有鈉、鈣、鎂、氯、硝酸鹽、碳酸鹽、硅等溶解鹽。這些鹽是由負(fù)電離子（負(fù)離子）和正電離子（正離子）組成。反滲透可以除去其中超過99%的離子。自來水也含有微量金屬，溶解的氣體（如CO2）和其它必須在工業(yè)處理中去除的弱離子化的化合物（如硅和硼砂）。

RO出水（EDI進(jìn)水）一般為4-30us（電導(dǎo)），根據(jù)不同需要，超純水或去離子水一般電阻為2-15MΩ.CM。Ionpure的EDI通過用氫離子或氫氧根離子將它們交換并將它們送至濃水流中除去它們。交換反應(yīng)在模塊的純化室進(jìn)行，在那里陰離子交換樹脂用它們的氫氧根離子（OH-）來交換溶解鹽中的陽(yáng)離子（如CL-）。相應(yīng)地，陽(yáng)離子交換樹脂用它們交換樹脂用它們的氫離子（H+）來交換溶解鹽中的陽(yáng)離子（如Na+）。在位于模塊兩端的陽(yáng)極（+）和陰極（-）之間加一直流電場(chǎng)。電勢(shì)就使交換到樹脂上的離子沿著樹脂粒的表面遷移并通過膜進(jìn)入濃水室。陽(yáng)極吸引負(fù)離子（如OH-，CL-）。這些離子穿過陰離子膜進(jìn)入相臨的濃水流卻被陰離子膜阻隔，從而留在濃水流中。陰極吸引純水流中的陽(yáng)離子（如H+，Na+）。這些離子穿過陽(yáng)離子選擇膜，進(jìn)入相臨的濃水流卻被陰離子膜阻隔，從而留在濃水流中。

當(dāng)水流過這兩種平行的室時(shí)，離子在純水室被除并在相臨的濃水流中聚積，然后由濃水流將其從模塊中帶走。在純水及濃水中離子交換樹脂的使用是Ionpure  EDI技術(shù)和專利的關(guān)鍵。一個(gè)重要的現(xiàn)象在純水室的離子交換脂中發(fā)生。在電勢(shì)差高的局部區(qū)域，電化學(xué)反應(yīng)分解的水產(chǎn)生的大量的H+和OH-。在混床離子交換樹脂中局部H+和OH- 的產(chǎn)生使樹脂和膜不需要添加化學(xué)藥品就可以持續(xù)再生。使EDI處于最佳工作狀態(tài)、不出故障的基本要求是對(duì)EDI進(jìn)水進(jìn)行適當(dāng)?shù)念A(yù)處理。進(jìn)水中的雜質(zhì)對(duì)去離子模塊有很大影響。并可能導(dǎo)致縮短模塊的壽命。

EDI正常運(yùn)行的最低條件：

以下是保證EDI正常運(yùn)行的最低條件。為了使系統(tǒng)運(yùn)行效果更佳，系統(tǒng)設(shè)計(jì)時(shí)應(yīng)適當(dāng)提高這些條件。

★給水：RO純水，一般水的電導(dǎo)率為4-30us/cm。

★PH：5.0-8.0(在此PH條件下，水硬度不能太高)

★溫度：5-35℃

★進(jìn)水壓力：最大為4kg/cm2(60psi)，最小為1.5kg/cm2(25psi)。

注意：組件壓力損失取決于流量和水溫。

EDI組件標(biāo)準(zhǔn)配置：

★出水壓力：濃水和電極水的出口壓力必須低于產(chǎn)品的出口壓力。

★硬度（以CaCO3計(jì)）：最大為1.0ppm，建議采用0.1ppm。

★有機(jī)物：最大為0.05ppm。

★氧化劑：最大為0.05ppm（CL2），0.02ppm（03）。

★變價(jià)金屬：最大為 0.01 ppm Fe。

★二氧化硅：50-150ppb。

★二氧化碳CO2的總量：二氧化碳含量和PH值將明顯影響產(chǎn)品水電阻率。在大于10ppm時(shí)般應(yīng)在EDI設(shè)備前安裝脫氣裝置。純水設(shè)備，蘭州去離子水設(shè)備，蘭州水處理設(shè)備，超純水設(shè)備，醫(yī)用GMP純化水設(shè)備。銀川純水設(shè)備